Im März 2026 wurde der von Junlian Chemical unabhängig entwickelte PFA-Filter (Perfluoralkoxy) in elektronischer Qualität erfolgreich von einer führenden inländischen Halbleiterwaferfabrik verifiziert und getestet. Dieser Filter besteht aus hochreinem PFA-Material und hochpräzisen perfluorierten Membranen und kann Nanopartikel und Metallionen in Fotomaskierungsmitteln und Ätzlösungen effektiv entfernen. Die Schlüsselindikatoren haben das fortgeschrittene internationale Niveau erreicht. Zuvor wurde dieser Markt von amerikanischen und japanischen Unternehmen monopolisiert. Dieser Durchbruch von Junlian Chemical senkte nicht nur die Beschaffungskosten für inländische Halbleiterunternehmen, sondern gewährleistete auch die Sicherheit der Lieferkette.
